Nikon SMZ 745 / SMZ 745T
立體顯微鏡
專為高精度工業產線、半導體封裝與電子品管檢驗打造，兼具高景深、超長工作距離與全方位環境防護的高效能立體顯微鏡。
解決方案
7.5 倍極致變焦範圍，無縫切換巨觀與微觀
面對規格繁多的電子零組件與複合式 PCB 板，檢驗人員常需要頻繁更換設備以確認不同尺度的瑕疵。具備 7.5 倍（0.67x - 5x）廣闊變焦範圍的 SMZ745 系列，讓使用者能先以低倍率獲得寬廣視野、快速定位目標區域，再直接順暢轉動變焦輪至高倍率，精準鎖定微小的 IC 銲點或毛邊瑕疵。全程不需中斷作業，顯著提升產線檢驗的流暢度與效率。
115mm 超長工作距離，釋放操作空間
產線人員進行 PCB 焊接重工、探針點測或精密組裝時，最怕受限於顯微鏡下的狹窄空間。SMZ745/745T 提供高達 115mm 的充裕工作距離，讓操作鑷子、烙鐵或檢修工具時游刃有餘，大幅降低工具撞擊鏡頭的風險。平坦且高對比的格里諾（Greenough）光學設計，更能有效減輕長時間連續檢測帶來的視覺疲勞，提供更舒適的操作體驗。
氣密防護結構，適應高落塵與嚴苛廠房
工業設備必須經得起實際生產環境的考驗。SMZ745/745T 具備優異的氣密性（防塵防滴結構），無論是佈署於粉塵較多的加工廠房，或是要求嚴苛的半導體無塵室，都能有效阻絕粉塵、油污與水氣侵入精密光學元件。極低的後續維護頻率確保了企業設備投資的長遠性價比。
數位化影像建檔與極致靜電防護 (ESD)
為因應嚴格的客戶稽核與生產履歷追蹤（Traceability），SMZ745T 型號內建光學分光設計（三眼頭），可無縫接軌數位相機，將檢驗畫面即時輸出並建立數位化 QA 報告。面對極度敏感的半導體元件，全機具備的防靜電（ESD）塗層能以極快速度釋放靜電，防止靜電擊穿晶片，嚴密守護產品良率。
核心優勢
7.5 倍超高變焦與 Greenough 光學系統
提供 0.67x 至 5x 廣視野連續變焦，搭配新型反射稜鏡，呈現高亮度與高對比立體影像。
115 mm 卓越工作距離
提供充裕的操作空間，有效避免微型加工工具或夾具撞擊元件，提升高景深觀察品質與作業效率。
Three "A" 嚴苛環境防護設計
具備 Air-tight（IPX1 氣密防塵）、Anti-fungal（防黴）與 Anti-electrostatic（防靜電 ESD）三重防護。
規格
常見問題 (FAQ)
SMZ745 與 SMZ745T 的主要差異是什麼？我該如何選擇？
主要差異在於「影像輸出能力」。SMZ745 為雙眼機型，適合專注於純目視檢查與重工操作的人員；SMZ745T（T 代表 Trinocular）為三眼機型，具備相機外接口。若單位需要將畫面輸出至螢幕供多人討論，或拍照建檔作為品保報告，建議選擇 SMZ745T。
115mm 的工作距離在實務上有什麼具體好處？
一般實體顯微鏡工作距離多在 90mm 左右，SMZ745 系列額外增加的這 2.5 公分空間，能讓烙鐵、探針等檢修工具以更大的傾角進入視場，操作手勢更自然，也降低工具誤觸物鏡造成的設備損壞風險。
設備可以直接放入半導體無塵室或高濕度環境使用嗎？
可以。全機經過嚴格的防靜電（ESD）處理，非常適合半導體無塵室環境；同時機身接縫與轉盤處皆有防塵防滴的氣密設計，能抵抗一定程度的粉塵與濕氣，確保長效運作。
SMZ745T 接上相機後，目視觀察與螢幕顯示的畫面會同步嗎？
SMZ745T 採用光路切換設計，使用者可透過機身上的拉桿，一鍵切換「雙眼 100% 目視」或「單眼 87% 輸出至相機 / 13% 目視」，確保在不同檢驗情境下都能維持最佳進光量與影像品質。
